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                                上海伯东真空产品事业部搬迁通知

                                KRI 考夫曼离子源 KDC 10
                                阅读数: 2705

                                KRI 考夫曼离子源 KDC 10

                                KRI 考夫曼离子源 KDC 10
                                上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 10: 考夫曼型离子源 Gridded 系列最小型号的离子源. 适用于集成在小型的真空设备中, 例如预清洗, 离子溅射, 离子蚀刻. 在 <1000eV 低能量, 通 Ar 氩气时离子蚀刻的能力显著提高.KDC 10 离子源低损伤, 宽束设计, 低成本等优点广泛应用在显微镜领域, 标准配置下 KDC 10 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 10mA.

                                 KRI 考夫曼离子源 KDC 10 技术参数

                                型号

                                KDC 10

                                供电

                                DC magnetic confinement

                                 - 阴极灯丝

                                1

                                 - 阳极电压

                                0-100V DC

                                 - 栅极直径

                                1cm

                                中和器

                                灯丝

                                电源控制

                                KSC 1202

                                配置

                                -

                                 - 阴极中和器

                                Filament, Sidewinder Filament  或LFN 1000

                                 - 架构

                                移动或快速法兰

                                 - 高度

                                4.5'

                                 - 直径

                                1.52'

                                 - 离子束

                                集中
                                平行
                                散设

                                 -加工材料

                                金属
                                电介质
                                半导体

                                 -工艺气体

                                惰性
                                活性
                                混合

                                 -安装距离

                                2-12”

                                 - 自动控制

                                控制4种气体


                                KRI 考夫曼离子源 KDC 10 应用领域
                                离子清洗, 显微镜抛光 IBP
                                溅镀和蒸发镀膜 PC
                                辅助镀膜(光学镀膜) IBAD
                                表面改性, 激活 SM
                                离子溅射沉积和多层结构 IBSD
                                离子蚀刻 IBE

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