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                                上海伯東真空產品事業部搬遷通知

                                KRI 考夫曼離子源 KDC 40
                                閱讀數: 2900

                                KRI 考夫曼離子源 KDC 40

                                KRI 考夫曼離子源 KDC 40
                                上海伯東代理美國原裝進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 40: 小型低成本直流柵極離子源. KDC 40 是 3cm 考夫曼型離子源升級款. 具有更大的柵極, 更堅固, 可以配置自對準第三層柵極. 離子源 KDC 40 適用于所有的離子工藝, 例如預清洗, 表面改性, 輔助鍍膜, 濺射鍍膜, 離子蝕刻和沉積. 離子源 KDC 40 兼容惰性或活性氣體, 例如氧氣和氮氣. 標準配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 120 mA.

                                KRI 考夫曼離子源 KDC 40 技術參數

                                型號

                                KDC 40

                                供電

                                DC magnetic confinement

                                 - 陰極燈絲

                                1

                                 - 陽極電壓

                                0-100V DC

                                電子束

                                OptiBeam™

                                 - 柵極

                                專用, 自對準

                                 -柵極直徑

                                4 cm

                                中和器

                                燈絲

                                電源控制

                                KSC 1202

                                配置

                                -

                                 - 陰極中和器

                                Filament, Sidewinder Filament  或LFN 1000

                                 - 架構

                                移動或快速法蘭

                                 - 高度

                                6.75'

                                 - 直徑

                                3.5'

                                 - 離子束

                                集中
                                平行
                                散設

                                 -加工材料

                                金屬
                                電介質
                                半導體

                                 -工藝氣體

                                惰性
                                活性
                                混合

                                 -安裝距離

                                6-18”

                                 - 自動控制

                                控制4種氣體

                                * 可選: 可調角度的支架


                                KRI 考夫曼離子源 KDC 40 應用領域
                                濺鍍和蒸發鍍膜 PC
                                輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD
                                表面改性, 激活 SM
                                離子濺射沉積和多層結構 IBSD
                                離子蝕刻 IBE

                                其他產品
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