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                                上海伯东真空产品事业部搬迁通知

                                KRI 考夫曼离子源 KDC 160
                                阅读数: 2728

                                KRI 考夫曼离子源 KDC 160

                                KRI 考夫曼离子源 KDC 160
                                上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 160是目前考夫曼 KDC 系列最大,离子能量最强的栅极离子源, 适用于已知的所有离子源应用, 离子源 KDC 160 高输出设计,最大电流超过 1000 mA. 无需水冷, 降低安装要求并排除腔体漏水的几率, 双阴极设计,标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 800 mA.

                                KRI 考夫曼离子源 KDC 160 技术参数

                                型号

                                KDC 160

                                供电

                                DC magnetic confinement

                                 - 阴极灯丝

                                2

                                 - 阳极电压

                                0-100V DC

                                电子束

                                OptiBeam™

                                 - 栅极

                                专用, 自对准

                                 -栅极直径

                                16 cm

                                中和器

                                灯丝

                                电源控制

                                KSC 1212

                                配置

                                -

                                 - 阴极中和器

                                Filament, Sidewinder Filament  或LFN 2000

                                 - 安装

                                移动或快速法兰

                                 - 高度

                                9.92'

                                 - 直径

                                9.1'

                                 - 离子束

                                聚焦
                                平行
                                散设

                                 -加工材料

                                金属
                                电介质
                                半导体

                                 -工艺气体

                                惰性
                                活性
                                混合

                                 -安装距离

                                8-45”

                                 - 自动控制

                                控制4种气体

                                * 可选: 可调角度的支架

                                KRI 考夫曼离子源 KDC 160 应用领域
                                溅镀和蒸发镀膜 PC
                                辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
                                表面改性, 激活 SM
                                离子溅射沉积和多层结构 IBSD
                                离子蚀刻 IBE

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