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                                上海伯東真空產品事業部搬遷通知

                                射頻離子源 RFICP 40
                                閱讀數: 2996

                                射頻離子源 RFICP 40

                                KRI 考夫曼離子源 RFICP 40
                                上海伯東代理美國原裝進口 KRI 考夫曼型離子源 RFICP 40 : 目前 KRI 射頻離子源 RFICP 系列尺寸最小, 低成本高效離子源. 適用于集成在小型的真空腔體內. 離子源 RFICP 40 設計采用創新的柵極技術用于研發和開發應用. 離子源 RFICP 40 無需電離燈絲設計, 適用于通氣氣體是活性氣體時的工業應用.標準配置下 RFICP 40 離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 120 mA.

                                離子源 RFICP 40 特性:
                                1. 離子源放電腔 Discharge Chamber, 無需電離燈絲, 通過射頻技術提供高密度離子, 工藝時間更長.
                                2. 離子源結構模塊化設計, 使用更簡單; 基座可調節, 有效優化蝕刻率和均勻性.
                                3. 提供聚焦, 發散, 平行的離子束
                                4. 離子源自動調節技術保障柵極的使用壽命和可重復的工藝運行
                                5. 柵極材質鉬和石墨,堅固耐用
                                6. 離子源中和器 Neutralizer, 測量和控制電子發射,確保電荷中性

                                KRI 考夫曼離子源 RFICP 40 技術參數:

                                型號

                                RFICP 40 / RFICP 40FN

                                供電

                                RF 射頻感應耦合

                                 - 陰極燈絲

                                -

                                 - 射頻功率

                                0.6 KW

                                電子束

                                OptiBeam™

                                 - 柵極

                                專用

                                 -柵極直徑

                                4 cm

                                中和器

                                LFN 2000

                                電源控制

                                RFICP 1510-2-06-LFNA

                                配置

                                -

                                 - 陰極中和器

                                LFN1000 or MHC1000 or RFN

                                 - 安裝

                                移動或快速法蘭

                                 - 高度

                                5.0'

                                 - 直徑

                                5.3'

                                 - 離子束

                                聚焦
                                平行
                                散設

                                 -加工材料

                                金屬
                                電介質
                                半導體

                                 -工藝氣體

                                惰性
                                活性
                                混合

                                 -安裝距離

                                6-18”

                                 - 自動控制

                                控制4種氣體

                                * 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量

                                KRI 考夫曼離子源 RFICP 40 應用領域:
                                預清洗
                                表面改性
                                輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD,
                                濺鍍和蒸發鍍膜 PC
                                離子濺射沉積和多層結構 IBSD
                                離子蝕刻 IBE

                                其他產品
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