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                                上海伯東真空產品事業部搬遷通知

                                霍爾離子源 eH 3000
                                閱讀數: 2793

                                霍爾離子源 eH 3000

                                KRI 霍爾離子源 eH 3000
                                上海伯東代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH 3000 最適合大型真空系統, 與友廠大功率離子源對比, eH 3000 是目前市場上最高效, 提供最高離子束流的離子源.
                                尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6”
                                放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A
                                操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體

                                KRI 霍爾離子源 eH 3000 特性
                                水冷 - 加速冷卻
                                可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時,最大限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極
                                寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
                                多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統; 安裝方便
                                高效的等離子轉換和穩定的功率控制

                                KRI 霍爾離子源 eH 3000 技術參數

                                型號

                                eH3000 / eH3000L / eH3000M / eH3000LE

                                供電

                                DC magnetic confinement

                                  - 電壓

                                50-250V VDC

                                  - 離子源直徑

                                ~ 7 cm

                                  - 陽極結構

                                模塊化

                                電源控制

                                eHx-25020A

                                配置

                                -

                                 - 陰極中和器

                                Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

                                 - 離子束發散角度

                                > 45° (hwhm)

                                  - 陽極

                                標準或 Grooved

                                 - 水冷

                                前板水冷

                                 - 底座

                                移動或快接法蘭

                                 - 高度

                                4.0'

                                 - 直徑

                                5.7'

                                 - 加工材料

                                金屬
                                電介質
                                半導體

                                 - 工藝氣體

                                Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

                                 - 安裝距離

                                16-45”

                                 - 自動控制

                                控制4種氣體

                                * 可選: 可調角度的支架;

                                KRI 霍爾離子源 eH 3000 應用領域
                                濺鍍和蒸發鍍膜 PC
                                輔助鍍膜 ( 光學鍍膜 ) IBAD
                                表面改性, 激活 SM
                                直接沉積 DD

                                其他產品
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