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                                上海伯東真空產品事業部搬遷通知

                                KRI 射頻離子源 Gridded RFICP 系列
                                閱讀數: 2311

                                KRI 射頻離子源 Gridded RFICP 系列

                                KRI 考夫曼離子源 Gridded RFICP 系列
                                上海伯東美國 KRI 考夫曼離子源 RFICP 系列,無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間更長
                                RFICP  系列提供完整的套裝, 套裝包含離子源, 電子供應器, 中和器, 電源控制等
                                RFICP  系列離子源是制造精密薄膜和表面的有效工具, 有效改善靶材的致密性光透射,均勻性,附著力等

                                RFICP系列離子源應用:
                                離子輔助鍍膜 IBAD( Ion beam assisted deposition in thermal & e-beam evaporation )
                                離子清洗 PC (In-situ preclean in sputtering & evaporation )
                                表面改性, 激活 SM (Surface modification and activation )
                                離子濺鍍IBSD (Ion beam sputter deposition of single and multilayer structures)
                                離子蝕刻 IBE (Ion beam etching of surface features in any material)

                                RFICP系列離子源技術參數:

                                型號

                                RFICP 40

                                RFICP 100

                                RFICP 140

                                RFICP 220

                                Discharge 陽極

                                RF 射頻

                                RF 射頻

                                RF 射頻

                                RF 射頻

                                - 燈絲陰極

                                - 射頻功率

                                0.6 kw

                                1kw

                                1kw

                                2kw

                                離子槍

                                離子束

                                離子束

                                離子束

                                離子束

                                - 柵極

                                根據實際應用選配

                                - 對齊

                                 

                                自對準

                                 

                                自對準

                                 

                                自對準

                                 

                                - 離子束直徑@柵極

                                4cm

                                10 或12cm

                                14cm

                                22cm

                                中和器

                                LFN 2000

                                LFN 2000

                                LFN 2000

                                LFN 2000

                                電源控制

                                RFICP 1510-2-06-LFNA

                                RFICP 1510-2-10-LFNA

                                RFICP 1510-2-10-LFNA

                                RFICP 1510-2-10-LFNA

                                配置

                                 

                                 

                                 

                                 

                                Cathode / Neutralizer

                                LFN1000 or MHC1000 or RFN

                                LFN2000 or MHC1000 or RFN

                                LFN2000 or MHC1000 or RFN

                                LFN2000 or MHC1000 or RFN

                                基座

                                法蘭或Remote

                                法蘭或Remote

                                法蘭或Remote

                                法蘭或Remote

                                高度

                                5.0 英寸

                                9.25 英寸

                                9.8英寸

                                11.8 英寸

                                直徑

                                5.3 英寸

                                7.52 英寸

                                9.8 英寸

                                16.1 英寸

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