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                                上海伯東真空產品事業部搬遷通知

                                射頻離子源 RFICP 380
                                閱讀數: 1980

                                射頻離子源 RFICP 380

                                美國 KRI 射頻離子源 RFICP 380 特性:
                                1. 放電腔 Discharge Chamber, 無需電離燈絲, 通過射頻技術提供高密度離子, 工藝時間更長.
                                   2kW & 1.8 MHz, 射頻自動匹配
                                2. 離子源結構模塊化設計
                                3. 自動調節技術保障柵極的使用壽命和可重復的工藝運行
                                4. 柵極材質鉬和石墨,堅固耐用
                                5. 中和器 Neutralizer, 測量和控制電子發射,確保電荷中性
                                6. 通氣 Ar, O2, N2, others
                                7. 離子束流: 電流: > 500毫安, 能量 100-1200eV
                                考夫曼離子源 RFICP 380 技術參數

                                型號

                                RFICP 380

                                放電腔 Discharge

                                射頻

                                最大功率

                                >1kW

                                最大離子束電流

                                >1000mA

                                電壓

                                100-1500V

                                氣體

                                惰性和活性

                                流量

                                5-50sccm

                                真空度

                                < 0.5mTorr

                                離子光學(自適應)

                                OptiBeamTM

                                離子束直徑@ grids

                                38cm Φ (maximum)

                                柵極材質

                                離子束形狀

                                平行. 聚焦, 發散

                                中和器

                                LFN 2000

                                高度

                                15” (38.1cm)

                                直徑

                                22.9” (58.2cm)

                                Feedthrough direct

                                12”CF

                                1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射沉積 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源 (離子槍) 中國總代理. 

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