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                                上海伯東真空產品事業部搬遷通知

                                考夫曼離子源應用于 LED-DBR 離子輔助鍍膜市場
                                閱讀數: 2604

                                考夫曼離子源應用于 LED-DBR 離子輔助鍍膜市場

                                考夫曼離子源應用于 LED-DBR 離子輔助鍍膜市場
                                上海伯東美國 KRI 考夫曼離子源成功應用于 LED-DBR 離子輔助鍍膜市場. 國內某知名 LED 制造商經過我司推薦采用考夫曼離子源 RFICP 325 安裝在 DBR 生產設備 1650 mm 蒸鍍機中.

                                考夫曼離子源客戶案例: 國內某知名 LED 制造商
                                1. 離子源應用: LED-DBR 鍍膜生產
                                2. 系統功能: 1650 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機.
                                3. 離子源: 采用美國考夫曼離子源 KRi RFICP 325. 離子源 RFICP 325 提供的離子束(不論是離子能量還是離子密度)均是目前業界最高等級, 離子源 RFICP 325 特殊的柵極設計 E22 Grided 可以涵蓋 1650 mm 尺寸的蒸鍍機中大范圍的載具 substrate holder, 無論是生產良率或是均勻性都可達到最高生產效能.
                                4. 離子源功能: 通過考夫曼離子源 RFICP 325 實現離子輔助鍍膜 IBAD 及預清潔 Pre-clean 功能后, 所生產出的 LED-DBR 無論是亮度測試, 脫膜測試, 頂針測試, 光學特性等等… 都優于目前一般業界蒸鍍機所搭配的離子源.

                                上海伯東考夫曼離子源安裝案例: KRI RFICP 325 考夫曼離子源安裝于 1650 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機.
                                上海伯東考夫曼離子源
                                上海伯東考夫曼離子源

                                KRI 考夫曼離子源測試案例: LED-DBR 脫膜測試.
                                1. 在高倍顯微鏡下檢視脫膜測試
                                上海伯東美國 KRI 離子源

                                2. 測試結果
                                上海伯東RFICP325脫模測試

                                --------- 使用其他品牌離子源---     --------------------- 使用美國考夫曼 KRI RFICP 325 離子源 ----------------------

                                從上圖可以清楚看出, 使用其他品牌離子源, 樣品存在崩邊的問題; 使用上海伯東美國考夫曼離子源, 樣品無崩邊
                                 

                                上海伯東美國考夫曼離子源 KRI  RFICP 325 優點:
                                高離子濃度, 高離子能量, 離子束涵蓋面積廣
                                鍍膜均勻性佳, 提高鍍膜品質
                                模塊化設計, 保養快速方便
                                增加薄膜附著性, 增加光學膜后折射率
                                全自動控制設計, 操作簡易
                                低耗材成本, 安裝簡易

                                上海伯東是美國考夫曼離子源 Kaufman & Robinson, Inc  中國總代理. 美國考夫曼公司離子源已廣泛應用于離子濺射鍍膜 IBSD. 考夫曼離子源可控制離子的強度及濃度, 使濺射時靶材被轟擊出具有中和性材料分子而獲得高致密, 高質量之薄膜. 考夫曼離子源可依客戶濺射工藝條件選擇 RFICP 射頻電源式考夫曼離子源或是 KDC 直流電原式考夫曼離子源.
                                若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式:
                                上海伯東:葉女士                             臺灣伯東:王女士
                                T: +86-21-5046-3511 ext 109         T: +886-03-567-9508 ext 161
                                F: +86-21-5046-1490                      F: +886-03-567-0049
                                M: +86 1391-883-7267                   M: +886-939-653-958
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