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                                霍尔离子源 eH 200
                                阅读数: 6937

                                霍尔离子源 eH 200

                                KRI 霍尔离子源 eH 200
                                上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH200 是霍尔离子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本设计离子源. 霍尔离子源 eH200 适用于小型真空腔内, 例如研发分析, 薄膜沉积和离子清洗. 霍尔离子源 eH200 操作简单是理想的生产工具.

                                KRI 霍尔离子源 eH 200 技术参数:

                                型号

                                eH 200

                                供电

                                DC magnetic confinement

                                  - 电压

                                40-300V VDC

                                  - 离子源直径

                                ~ 2 cm

                                  - 阳极结构

                                ??榛?/p>

                                电源控制

                                eHx-3005A

                                配置

                                -

                                  - 阴极中和器

                                Filament or Hollow Cathode

                                  - 离子束发散角度

                                > 45° (hwhm)

                                  - 阳极

                                标准或 Grooved

                                  - 水冷

                                  - 底座

                                移动或快接法兰

                                  - 高度

                                2.0'

                                  - 直径

                                2.5'

                                  -加工材料

                                金属
                                电介质
                                半导体

                                  -工艺气体

                                Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

                                  - 安装距离

                                6-24”

                                  - 自动控制

                                控制4种气体

                                * 可选: 可调角度的支架; Filamentless; Sidewinder

                                KRI 霍尔离子源 eH 200 应用领域:
                                溅镀和蒸发镀膜 PC
                                辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
                                表面改性, 激活 SM
                                直接沉积 DD

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