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                                上海伯東真空產品事業部搬遷通知

                                Hakuto (NS) 離子蝕刻機

                                Hakuto NS 日本原裝設計制造離子刻蝕機, 提供微米級刻蝕, 滿足所有材料的刻蝕, 即使對黃金 AU, 鉑 PT, 合金等金屬及半導體材料也能提供最優蝕刻. 適用于 MR 薄膜磁頭, 自旋電子學, 應力傳感器, 射頻濾波器, 超導體, 復合半導體材料的刻蝕. NS 蝕刻機可配置德國 Pfeiffer 渦輪分子泵和美國 KRI 考夫曼離子源!

                                Hakuto (NS) 離子蝕刻機

                                Hakuto (NS) 離子蝕刻機對磁性材料, 黃金, 鉑和合金金屬提供最佳蝕刻技術. 適合做各種材料的蝕刻.

                                型號

                                NS 7.5IBE

                                NS 10IBE

                                NS 20IBE-C

                                NS 20IBE-J

                                適用范圍

                                適用于科研院所,實驗室研究

                                適合小規模量產使用和實驗室研究

                                適合中等規模量產使用的離子刻蝕機

                                適合大規模量產使用的離子刻蝕機

                                基片尺寸

                                Φ4 X 1片或
                                Φ6 X 1片

                                φ8 X 1片

                                φ3 inch X 8片
                                φ4 inch X 6片
                                φ8 inch X 1片

                                Φ4 inch X 12片
                                φ5 inch X 10片
                                φ6 inch X 8片

                                NS 離子蝕刻機 7.5IBE

                                小型離子蝕刻機,適用于科研院所,實驗室研究

                                NS 離子蝕刻機 10IBE

                                小型離子蝕刻機,適合小規模量產使用和實驗室研究

                                NS 離子蝕刻機 20IBE-C

                                適合中等規模量產使用的離子刻蝕機

                                 

                                NS 離子蝕刻機 20IBE-J

                                適合大規模量產使用的離子刻蝕機

                                 

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